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英特尔公布未来制程技术路线图,有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机

编辑/2021-07-27/ 分类:文登创业/阅读:
7月27日,在Inel Accelerated大会上,英特尔首席执行官基辛格(Pat Gelsinger)表示,摩尔定律仍在持续生效。 在当天大会上,英特尔公布了未来制程技术路线图,同时介绍了下一代极紫外光刻(EUV)技术的使用计划。根据进展,英特尔有望得 获得业内第一台High ...

7月27日,在Inel Accelerated大会上,英特尔首席执行官基辛格(Pat Gelsinger)表示,摩尔定律仍在持续生效。

在当天大会上,英特尔公布了未来制程技术路线图,同时介绍了下一代极紫外光刻(EUV)技术的使用计划。根据进展,英特尔有望得 获得业内第一台High-NA EUV光刻机。而在客户上,基辛格透露已与AWS签约,该公司将成为第一个使用英特尔代工服务(IFS)封装解决方案的客户。同时,高通也将采用Intel 20A制程工艺技术,这一技术预计将在2024年推出。

在发布会上,英特尔公布了未来5年的技术路线图,对芯片的制程工艺进行了新的命名,10纳米Enhanced SuperFin更名为“Intel 7”、Intel 7纳米更名为“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代将是“Intel 20A”、 “Intel 18A”。

此外,基辛格表示,预计在今年年底前宣布在欧洲以及美国的进一步工厂布局。“这将是一笔足以支持大型晶圆厂的巨额投资,虽然我们自己已在推进其中的一些投资项目,但同时欢迎美国和欧盟的政策制定者能够以紧迫感采取行动,加快我们和集成电路产业其他公司的项目进展。”

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